2021-11-12 10:53:00 716人浏览
在当今的半导体制造工艺中，溅射靶材无疑是重要的原材料，其质量和纯度对半导体产业链的后续生产质量起着关键作用。
2021-11-12 10:14:42 1441人浏览
物理气相沉积（PVD）是一种薄膜制备技术，它在真空条件下将材料源（固体或液体）的表面物理蒸发成气态原子、分子或部分电离成离子。然后，通过低压气体（或等离子体）在基板表面沉积具有特定功能的薄膜。
2021-11-11 16:39:47 1104人浏览
真空蒸发镀膜是将固体材料（简称蒸镀材料）在高真空环境中加热，沉积在加工基板上，得到薄膜的过程。
2021-11-11 15:57:55 1078人浏览
溅射沉积是一种物理气相沉积技术，通过高能粒子轰击靶材，粒子从固体靶材中喷射出来。它是一种将金属或其他材料薄膜沉积到各种表面上的电子工艺。
